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     1947年12月23日，美國貝爾實驗室的巴丁、布喇頓、肖克萊研制成功晶體管，打破了電子管在體積、功耗、壽命等方面的局限性，使電子技術躍入一個新的階段。1953年, 摩托羅拉公司研發出低成本的晶體管，用于無線電通訊接收機和收音機的音頻功率模塊上。德州儀器的 Jack Kilby研發出世界上第一塊集成電路 (IC)。

     到了1984年，美國芯片保護法(The U.S. Semiconductor Chip Protection Act ,SCPA)頒布，創設了知識產權保護的新類型。

     1985年，日本頒布了《Act Concerning the Circuit Layout of a Semiconductor Integrated  circuit 》。

      歐共體在1986年發布《Council Directive on legal protection of Topographies of SC products (87/54/EEC)》。

      在美、日等國的提議下，世界知識產權組織（WIPO）開始制訂保護集成電路的條約，1989年WIPO公布了華盛頓公約（Washington Treaty）；1994年, 關于集成電路布圖設計的相關規定納入了TRIPS協議文本中。

      我國在2001年頒布的《集成電路布圖設計保護條例》等規范性文件，主要參照TRIPS協議。

2

    《集成電路布圖設計保護條例》的第二條如下：

  “本條例下列用語的含義：

     (一)集成電路，是指半導體集成電路，即以半導體材料為基片，將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片之上，以執行某種電子功能的中間產品或者最終產品；

     (二)集成電路布圖設計(以下簡稱布圖設計)，是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置，或者為制造集成電路而準備的上述三維配置；

     (三)布圖設計權利人，是指依照本條例的規定，對布圖設計享有專有權的自然人、法人或者其他組織；

     (四)復制，是指重復制作布圖設計或者含有該布圖設計的集成電路的行為；

     (五)商業利用，是指為商業目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的行為?！?/span>

      從《集成電路布圖設計保護條例》的標題名稱上看，直接將布圖設計作為中心詞，該條第（二）項將保護客體直接限定于半導體集成電路上，這是因為只有半導體集成電路在制造過程中對布圖設計有著必然的依賴性。

      該條第（三）項規定了享有布圖設計專有權的主體是自然人、法人或者其他組織。并在該條例第二章專章規定的布圖設計專有權的內容，與該條第（四）項和第（五）項的關于“復制”和“商業利用”的定義相呼應。

      條例第四條規定：“受保護的布圖設計應當具有獨創性，即該布圖設計是創作者自己的智力勞動成果，并且在其創作時該布圖設計在布圖設計創作者和集成電路制造者中不是公認的常規設計。”可見，獨創性是布圖設計專有權的實質要件，即具有獨創性的布圖設計才能得到保護，這又充分體現了布圖設計專有權的著作權法的基因。

       條例第七條具體細化規定了布圖設計專有權的兩項權能，即“復制權”和“商業利用權”，即布圖設計專有權人享有：

     (1)對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創性的部分進行復制的專有權，和

     (2)將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業利用的專有權。

      其中復制權的內容特別值得注意，對布圖設計而言，并不要求某個布圖設計的全部內容都具有獨創性，只要其中的某個部分具有獨創性即可。

3

      條例第六條規定，國家知識產權局負責布圖設計專有權的有關管理工作。具體來說，由設立在國家知識產權局審查一部是相關處室負責登記審查，采用初步審查制，“布圖設計登記申請經初步審查，未發現駁回理由的，由國務院知識產權行政部門予以登記，發給登記證明文件，并予以公告?！?nbsp;截止到2021年11月，歷年的登記申請與發證的數量見下圖（資料來源為國家知識產權局網站）：

      從上圖可以看出，條例施行后的十年間，累計的申請量不足5000件，從2011年開始到2016年，每年的申請量不超過3000件，2020年開始，年申請量突破1萬件。這種申請趨勢有何規律，值得認真思考。

      順便指出的是，與條例配套的實施細則第十六條規定，“布圖設計在申請日之前已投入商業利用的，申請登記時應當提交4件含有該布圖設計的集成電路樣品，……?！?/p>

      與專利法的規定相仿，對于駁回登記的不服的當事人，可以通過復審程序尋求法律救濟。即：“布圖設計登記申請人對國務院知識產權行政部門駁回其登記申請的決定不服的，可以自收到通知之日起3個月內，向國務院知識產權行政部門請求復審。國務院知識產權行政部門復審后，作出決定，并通知布圖設計登記申請人。布圖設計登記申請人對國務院知識產權行政部門的復審決定仍不服的，可以自收到通知之日起3個月內向人民法院起訴?！?/p>

      條例規定的撤銷程序顯得非常特別。對于已經獲得登記的布圖設計，條例第二十條規定：“布圖設計獲準登記后，國務院知識產權行政部門發現該登記不符合本條例規定的，應當予以撤銷，通知布圖設計權利人，并予以公告。布圖設計權利人對國務院知識產權行政部門撤銷布圖設計登記的決定不服的，可以自收到通知之日起3個月內向人民法院起訴。”

      從該二十條的規定看，有權啟動撤銷程序的是的主體是“國務院知識產權行政部門”，即撤銷程序為單方當事人程序，只能由國家知識產權局依職權啟動。下圖顯示的從國家知識產權局網站上檢索出的撤銷決定數量十分有限，且編號也不連續，表明有一些案子提前結案了。

4

      集成電路布圖設計的侵權判定，應秉持“接觸+實質相同”理念。權利人需要從權利基礎及侵權事實兩方面舉證。其中，權利基礎的證明是集成電路布圖設計侵權訴訟中的重點與難點。盡管權利人經過登記程序獲得證書，但要想明確其權利基礎，僅從證書和申請文件中還不能明確確定。這是因為，布圖設計是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置，或者為制造集成電路而準備的上述三維配置。而登記文件為平面圖，且完整的布圖設計圖需要多個幅面，難免不進行縮小處理，由此導致圖上顯示的內容不夠清晰，且沒有類似專利權利要求書的直觀內容。特別需要指出的是，登記的布圖設計不能當然推定其內容具有獨創性，故權利人需要明確指出登記文件的哪些內容屬于受保護的具有獨創性的布圖設計，如果權利人在登記時沒有提交過含有布圖設計的集成電路樣品，僅憑不夠清晰的布圖設計圖來確定權利基礎，會給審理法院帶來難當大的麻煩，這也是集成電路布圖設計難以實際獲得保護的原因之一。因此，從維權的便利方面看，應盡可能提交含有布圖設計的集成電路樣品。

      實務中，權利人（原告）應明確指出指明布圖設計中有哪些部分具有獨創性（獨創點），最好提供與各獨創部分對應的現有常規設計，以此證明作為其權利基礎的布圖設計具有獨創性。若提交過含有布圖設計的集成電路樣品，除登記文件與集成電路樣品不相互對應外，則該集成電路樣品也可以作為權利基礎。因此，登記文件與集成電路樣品兩者的法律地位是相同的，這一點已被最高法院知識產權法庭做出的（2019）最高法知民終490號判決書所肯定。

      在確定了權利基礎之后，權利人（原告）還必須“鎖定”被控侵權產品，通常是通過公證購買獲得被控侵權產品。并通過鑒定機構做出技術鑒定，與前述作為權利基礎的設計部分進行比對，兩者要滿足相同或實質相同的標準。

      最后，權利人（原告）還要舉證被控侵權方與原告方有過“接觸”。例如，在上述（2019）最高法知民終490號案中，最高法院認為：“基于上述對于登記行為性質的分析，登記是產生布圖設計專有權的前提，而不具有公開布圖設計內容的性質。在布圖設計已經獲得登記，取得專有權的情況下，對布圖設計的侵權認定類似著作權侵權認定思路，而無法采用與專利侵權認定相同的規則。即使在被訴侵權芯片與布圖設計構成相同或實質相同時，也要考慮被訴侵權人是否具有接觸布圖設計的可能性，即布圖設計的侵權認定采取接觸加相同或實質相同的判斷方法。其中，接觸是指權利人應舉證證明指被訴侵權人在被訴侵權行為發生前，具有接觸涉案布圖設計的可能性，而不要求其對已經發生實際接觸進行舉證?！?/p>

      “本案中，涉案布圖設計在進行登記前已經投入商業使用，使用涉案布圖設計的產品在相關市場銷售。賽芯公司的法定代表人譚健在2011年8月至2013年4月期間按月向戶財歡支付報酬，在此期間一定時間內支付金額大致相當。……。戶財歡其后作為唯一股東設立了準芯微公司，并擔任法定代表人，復制了涉案布圖設計，銷售了使用涉案布圖設計的產品，而沒有提供使用的被訴侵權布圖設計的來源?；谏鲜龇治?，本院認定準芯微公司滿足接觸可能性的條件，賽芯公司無需舉證證明準芯微公司實際進行了反向工程、實際接觸了涉案布圖設計。”

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      盡管集成電路布圖設計登記的主管機關為以專利審查為主要職能的國家知識產權局負責，但不容否認的是，《集成電路布圖設計保護條例》所天然帶有著作權法的基因，而在獨創性要件的認識和把握上，往往受到傳統專利法原理的影響。兩種制度對集成電路補圖設計的影響，使得集成電路布圖設計權侵權判定中存在著不小的模糊空間。以下略作比較研究。

      1、“公開換保護”是專利法的基本原理，而集成電路布圖設計登記后并不會公開其實質內容。

      2、專利法有“新穎性、創造性、實用性”的授權要件，而集成電路布圖設計保護以“具有獨創性的布圖設計部分”作為保護的權利基礎，兼有對“商業利用權”的保護。

     3、專利法中，對于技術方案的專利保護，以權利要求的內容為準，保護客體為完整的技術方案；而集成電路布圖設計保護可以保護布圖設計的“局部”。

     4、專利法中對于技術方案不要求提供“樣品”，而集成電路布圖設計保護可以提供含有的集成電路樣品，且可以作為權利基礎。

      5、在程序制度設計方面，專利法規定了專利無效宣告程序，任何單位或個人可對其認為不符合專利授權條件的授權專利提出無效請求；而集成電路布圖設計保護只有“依職權”的撤銷程序，盡管實務中有請求人向國家知識產權局提出撤銷登記請求，但請求人的法律地位仍然模糊，無法成為適格的撤銷程序當事人。

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       種種跡象表明，集成電路布圖設計保護在中國乃至世界各國都被權利人所冷落：中國每年區區一萬件左右的布圖設計登記申請數量（其中也存在著泡沫成分），與集成電路技術領域的專利申請量相比，實在是少得可憐；可以檢索到的侵權訴訟案件或撤銷案件累計不超過百件。分析下來，其原因在于這一立法模式并不能滿足權利人的需求。因此，與其說通過對集成電路布圖設計保護制度進行大修來改變上述狀況，不如正確認識該制度的局限性，對集成電路轉向專利保護或者技術秘密保護的軌道。